超潔淨不銹鋼在半導體管件的應用

出版日期 2013-09-30
作者 林偉凱
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摘要

超清淨不銹鋼所製成之超清淨閥(Ultra Clean Valve; UCV)為一半導體製程設備用之精密閥體,經常使用在半導體製造裝置中,輸送高純度氣體管路上及工廠特殊氣體配管用途上。在半導體晶片製造過程中,若有微粒子、有機物等不純物附著在晶片表面,將會對半導體的製造產生嚴重的影響,品質會因而降低,所以保持製程設備中氣體管路相關零組件的表面超潔淨是相當重要的。

由於超清淨不銹鋼管閥件大多為無縫鋼管,然國內缺乏不銹鋼無縫鋼管生產製造商,故無法形成半導體設備用精密超清淨不銹鋼管閥件的產業鏈,此乃日後推動國內半導體設備用精密超清淨不銹鋼管閥件材料自主化須解決之重大課題。

目錄

一、前言
二、超清淨不銹鋼的基本性能要求
三、超清淨不銹鋼閥製程技術
四、超清淨不銹鋼材料的選用
五、超清淨不銹鋼閥的市場概況
六、國內超清淨不銹鋼產業鏈缺口
七、小結

圖目錄

【圖1】超清淨不銹鋼閥基本製造流程
【圖2】超清淨不銹鋼成品之實物照片
【圖3】2008~2015年台灣半導體與設備產業規模

表目錄

【表1】半導體設備管路系統之常用元件
【表2】無縫與有縫鋼管之比較